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光刻机是谁发明的 什么叫光刻机?光刻机不卖给中国的原因是什么

2019-04-30 23:52  芯智讯  字号:T|T

本文共分六个部分:

一、序言

二、光刻机技术发展及未来趋势

三、光刻机“寡头”市场

四、巨人ASML成长分析

1、发展历程

2、上市、资金与并购、技术

3、不断投入研发,适时更新产品

4、外包联合开发,构建以ASML为核心产业链联合体

5、主动出击,全力拓展新兴市场,扩大发展空间

五、国产光刻机的发展

1、历史

2、现状

3、重大突破

六、如何看我国半导体装备业的发展

光刻机是谁发明的 什么叫光刻机?光刻机不卖给中国的原因是什么

以下正文

一、引言

ASML脱胎于飞利浦光刻设备研发小组。飞利浦从1971年开始,在此前开发的透镜式显影装备基础上,开发透镜式非接触光刻设备。虽然在1973年成功推出新型光刻设备,在整体性能研发方面取得一定成功,但由于成本高昂,且存在一系列技术问题,很难对外推广。同时,其他设备商在解决接触式光刻机的缺陷问题上用不同的技术路径取得了突破。于是,飞利浦计划要关停光刻设备研发小组。

这时ASMI找上门来要求合作开发生产光刻机。ASMI是什么来头呢?这里有必要介绍一下。ASMI(Advanced Semiconductor MaterialsInternational)是由Arthur del Prado在1964年创办,初时是一家半导体设备代理商。Arthur del Prado非常富有战略眼光且专注半导体,很快在半导体业界风生水起,并于1971年公司开始转型进入封装设备生产,慢慢扩大到前道设备,1976年公司的PECVD进入市场,奠定ASMI作为原始设备生产商的地位。1981年公司成功上市。

ASMI兴冲冲而来,没想到热脸贴冷屁股。飞利浦已经心灰意冷了,但耐不住的Arthur del Prado的软磨硬泡,于是同意与Advanced Semiconductor Materials B.V.合作,在1984年4月成立Advanced Semiconductor Material Lithography Holding N.V.。

ASML当时面临三大问题,一个是技术落后,飞利浦公司先前研发的技术在漫长的等待中已经过时,远不能满足客户要求;二是市场已经饱和,竞争非常激烈,强手如林,日本的Nikon、Canon、Hitachi,美国的GCA、SVG、Ultratch、ASET、Perkin-Elmer、Eaton,民主德国的Zeiss等相继推出了自己的光刻机产品;三是资金严重匮乏。

据说当时员工都对ASML的未来没有信心。现在ASML公司官方网站里的“Our History”里,都用了“inauspiciously”这个词描写当时的情况。

光刻机是谁发明的 什么叫光刻机?光刻机不卖给中国的原因是什么

是什么原因让ASML杀出重围,并成长为光刻机领域的绝对龙头,全球市占率达到近70%,垄断高端EUV光刻机市场。

观其成长之路,可谓一段产业传奇。成立之初,由于技术落后和资金不足,加上产业周期性衰退,几乎陷入破产境界;1995年上市,充裕的资金让公司发展提速;2000年推出TWINSCAN双工件台光刻机,一举奠定霸主地位;进入EUV时代,得到大客户支持,更是一骑绝尘。可以说ASML的龙头之路既与产业大环境密切相关,也是其自身重视研发,对研究创新始终采取开放态度的必然结果。

本文原载于兵马俑在线(news.wmxa.cn),转载请保留本链接,敬谢!

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